CVD气相沉积|推荐-上海添时科学仪器有限公司

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PECVD等离子体增强气相沉积参考价：面议

参考价：面议型号：
PECVD等离子体增强气相沉积是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积（HPCVD)双温区回转炉系统源（带自动匹配功能）、上游原位蒸发舟、4通道质子流量计...
型号：品牌：所在地：上海市 对比

PECVD等离子体增强气相沉积

2025/3/13 13:26:312392
CVD气相沉积参考价：面议

参考价：面议型号：
CVD（ChemicalVaporDeposition，化学气相沉积）是一种用于薄膜沉积的技术。它通过将气态化学前驱体反应成固态沉积物，在基材表面形成薄膜。CV...
型号：品牌：所在地：上海市 对比

CVD气相沉积PECVD等离子体增强气相沉积

2025/3/13 13:24:031650
双通道ALD管式炉系统参考价：面议

参考价：面议型号：ALD-1200X-4
双通道ALD管式炉系统ALD-1200X-4是一款4英寸管式炉系统，包含用于原子层沉积的2个ALD进气阀、1个精密液体气相发CVD生长纳米材料和薄膜材料的4通道...
型号： ALD-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 对比

马弗炉管式炉合肥科晶CVDPECVD

2025/3/13 12:43:135840
大面积双管石墨烯生长炉参考价：面议

参考价：面议型号：GSL-1100X-III-D11
GSL-1100X-III-D11是一款大面积双管石墨烯生长炉，其最高温度可以达到1100℃。特殊的双管设计，法在箔材上大面积生长材料（面积：~7000 cm^...
型号： GSL-1100X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 对比

马弗炉CVDPECVD合肥科晶管式炉

2025/3/13 12:40:522494
1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统参考价：面议

参考价：面议型号：OTF-1200X-II-PEC4
1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统，OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等离子增强混合物理化学气相沉积（HPCVD)双温区回转炉系统源（带自...
型号： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 对比

马弗炉CVDPECVD管式炉合肥科晶

2025/3/13 12:38:333391
1700°C二通道混气高真空CVD系统参考价：面议

参考价：面议型号：GSL-1700X-HVC
GSL-1700X-HVC是一款CE认证的二通道高真空CVD系统，它是由二路质子混气系统和高真空机组组度可达1600℃，极限真空度可达 to 10^-5 tor...
型号： GSL-1700X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 对比

马弗炉CVDPEVCD管式炉合肥科晶

2025/3/13 12:36:282915
1200℃三温区三通道混气CVD系统参考价：面议

参考价：面议型号：OTF-1200X-80-III-F3LV
OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE认证的三温区管式炉CVD系统，其管径为80mm，采用机械泵，路浮子流量供气系统组成，其真空度可达到 10-2...
型号： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 对比

马弗炉合肥科晶CVD

2025/3/13 12:34:432619